來源：中國合（hé）成樹脂網 2022-05-31 09:58:44
5月27日，旭化成（chéng）宣布已與（yǔ）三井化學簽署了關於將旭（xù）化成光掩模薄膜業務轉讓給三（sān）井化（huà）學的最終協議。旭化成計劃從三井化學獲得74億日元（約3.9億人民幣）作為分離後的權利和義（yì）務的對價，最終金（jīn）額將（jiāng）根據最終協議進行（háng）調整後確定。
此（cǐ）次轉讓包括旭（xù）化成（chéng）在日本、韓國（guó）、北美和中國製造、開發和銷售光掩模薄膜業（yè）務（wù），以及受委托製造光掩（yǎn）模薄膜的Asahi Kasei的合（hé）並（bìng）子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有（yǒu）股份（業務），生效日期為2023年（nián）7月1日（預定）。
今後，三井化學將充（chōng）分利用旭化成旗下的岩國大竹工廠和延岡工廠，整（zhěng）合和結合旭化成和（hé）三井化學積累的開發（fā）製造能力，謀劃進一步的業務拓展和提升。
光掩模
光掩模，也叫半導體光罩，是半導體光刻工藝中的高精密工具，主要（yào）由基板和不透光材料組成（chéng），起（qǐ）到光刻機與大矽片的橋梁和紐帶作用（yòng）。
從規模（mó）看，光掩膜僅約占芯片總成本的13%，其價值遠低於（yú）占比38%的矽（guī）片，關注度更是（shì）與矽片相去甚遠。但小小的（de）光掩膜（mó）價值卻非比尋常，它（tā）不（bú）僅是芯片製造中必不可少的核心材料之（zhī）一，其質量的好壞更是直（zhí）接決定芯（xīn）片最終（zhōng）的性能。
全球領先的光掩模製造商的總（zǒng）部也大多設在日本。據CSET預計（jì），日（rì）本企業控製了53%的商業光掩模市場，美國企業占比40%，台灣企業占比7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks兩家大（dà）廠都是日本廠商（shāng）。
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